去除高纯氧化铝原料中杂质

点击次数:   更新时间:19/11/29 14:16:11     来源:www.aosinachem.com关闭分    享:

  提取高纯氧化铝的原料硫酸铝中所含有的杂质有铁离子、亚铁离子、硅酸盐、钠离子和钾离子等,会影响到产品的纯度,因此想要制得高纯度的产品就得去除掉它们,下面来说说一般采用的方法。
  1.杂质硅的去除
  对于高纯氧化铝中的杂质硅,由硅酸性质,当pH在3.0-4.0范围时,硅酸会以原硅酸的形式析出,只要过滤就能将硅杂质除去。所以除硅的方法是:因为硫酸铝溶液呈酸性,根据其溶液的密度不同,其溶液pH可低达2.5.在配制好的硫酸铝溶液中,用pH试纸测溶液pH,测过pH之后,如果溶液pH大于4.0,滴加配制的稀H2SO4,调pH在3.5左右。pH调好后,用玻璃棒搅拌2分钟之后,用G4漏斗过滤。为了节省过滤时间,用抽滤机和抽滤瓶进行抽滤。
  2.杂质铁的去除
  对于高纯氧化铝中的杂质铁离子,由于Fe2+在pH为1.0-2.0 时,会被过氧化氢氧化为Fe3+,所以往除过硅的溶液中加入配制的稀H2SO4,调pH为1.5.滴加几滴0.3H2O2.搅拌2分钟。一滴一滴的加入氨水,调pH大于2.0,因为Fe3+在pH为1.8时就会完全沉淀。滴加氨水后,由于产生的氢氧化铝溶解缓慢,可以用电炉微热烧杯,以加速氢氧化铝溶解。当pH大于2.0时,用G4漏斗抽滤。向滤液中加入绿豆大小的铝粉,搅拌1-2分钟,目的是为了置换出其他较不活泼的金属杂质。用G4漏斗抽滤。
  3.杂质钠和钾的去除
  对于高纯氧化铝原料中的钠离子和钾离子,由于金属钠、钾和铝的化学活性较高,它们的离子完全溶解于水中,所以为了除去钠离子和钾离子,可以让活性较低的铝离子转化成氢氧化铝沉淀出来,再经过清洗步骤将钠离子和钾离子除去。清洗的方法是:使除过杂质硅和铁的硫酸铝溶液与碳酸氢铵溶液反应,生成沉淀氢氧化铝,用G4漏斗抽滤,得滤饼氢氧化铝。将滤饼转移到组织搅拌匀浆机中,加入20-50倍的水。搅拌10分钟后,用布氏漏斗抽滤。为了把钠离子和钾离子去除干净,重复清洗步骤5次。
  以上就是关于去除高纯氧化铝原料中杂质采用的办法,在生产没有好的除杂,很难保障产品的质量,因此一定要严格按照标准进行,才能保证产品正常的工作需要。

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